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LAM RESEARCH 810-802902-213

  • 使用方法:不依赖外部电源,通过CT电路供电,适用于无辅助电源的配电盘。
    发货时间:库存现货 质保一年
    付款方式:SWIFT C/*C 对公 对私
    原产地:USA
    联系方式:+8615359029662
    销售范围:全球 all over the world
    用途:提供定时限和反时限跳闸特性,用户可根据需求选择。 具备接地故障保护功能,支持两级接地故障监控(IE, IE>>)。
  • 手机:+86 153 5902 9662 邮箱:geabbamy@gmail.com
  • 产品详情

LAM RESEARCH 810-802902-213 REV B、810-800256、853-226429-001 技术参数说明

LAM RESEARCH(泛林集团)是全球领先的半导体设备制造商,专注于提供先进的晶圆制造设备。以下对相关型号的技术参数进行说明:

1. 810-802902-213 REV B

  • 类型:电路板或控制板
  • 功能:用于半导体设备中的控制系统,可能涉及信号处理、电源管理或接口通信。
  • 技术参数
    • 接口:支持多种工业标准接口(如以太网、USB、CAN等)。
    • 电源:通常为直流电源(具体电压需参考产品手册)。
    • 环境适应性:符合工业级标准,适应高温、高湿等恶劣环境。
    • 兼容性:与LAM RESEARCH的其他设备或模块兼容。

2. 810-800256

  • 类型:电路板或组件
  • 功能:可能用于半导体设备的特定功能模块,如传感器接口、数据处理单元等。
  • 技术参数
    • 尺寸:标准工业尺寸,具体需参考产品手册。
    • 信号处理:支持高速数据传输和处理。
    • 可靠性:高MTBF(平均无故障时间),确保长期稳定运行。
    • 认证:符合CE、UL等国际安全标准。

3. 853-226429-001

  • 类型:特定功能模块或组件
  • 功能:可能用于LAM RESEARCH设备中的特定工艺步骤,如等离子体处理、薄膜沉积等。
  • 技术参数
    • 工艺能力:支持高精度、高稳定性的工艺控制。
    • 兼容性:与LAM RESEARCH的等离子体蚀刻设备(如Kiyo、Versys系列)兼容。
    • 性能指标
      • 均匀性:在晶圆表面实现高均匀性的工艺处理。
      • 选择比:高选择比,确保对不同材料的精确处理。
      • 产能:高产能设计,满足大规模生产需求。

LAM RESEARCH 设备的关键技术优势

  • 高精度工艺控制:采用先进的传感器和控制系统,确保工艺参数的精确控制。
  • 高稳定性:设备设计符合工业级标准,确保长期稳定运行。
  • 高产能:优化设备结构,提高生产效率,降低生产成本。
  • 兼容性与扩展性:设备模块化设计,便于升级和扩展,适应未来技术发展。


产品型号介绍图.jpg



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